鉭旋轉(zhuǎn)靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶(hù)要求定制。
鉭平面靶采用真空熔煉工藝制得，尺寸及純度根據(jù)客戶(hù)要求定制。

純度：99.95-99.99%
應(yīng)用領(lǐng)域：半導(dǎo)體鍍膜行業(yè)和光學(xué)鍍膜工業(yè)。

詳細(xì)資料點(diǎn)擊下載