鉻硅旋轉靶采用噴涂工藝制得，可生產最大長度4000mm，厚度及比例根據客戶要求定制。
鉻硅平面靶由高純硅、鉻熔煉鑄造得到的中間合金，再精細破碎成粉，經過仔細的混粉，包套，抽真空，熱等靜壓得到CrSi錠坯，然后經過機械加工制得，尺寸及及比例根據客戶要求定制。

純度：99.9-99.99%
應用領域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。

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