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鎳靶材


鎳旋轉(zhuǎn)靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結(jié)工藝或噴涂工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。
鎳平面靶采用冷壓成型工藝和真空熱壓燒結(jié)工藝制得,尺寸及純度根據(jù)客戶要求定制。

純度:99.9-99.9995%
應(yīng)用領(lǐng)域:半導(dǎo)體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、工件表面涂層等。

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